CAS-szám: 14405-43-7 Gallium(III)-acetil-acetonát

CAS-szám: 14405-43-7 Gallium(III)-acetil-acetonát

Molekulaképlet: C15H21GaO6
Molekulatömeg: 367,05
fő jellemzők: A fémkoordinációs vegyületek nagy stabilitást mutatnak, és jól{0}}alkalmasak új anyagokban és katalitikus szintézisekben való alkalmazásokhoz.
A szálláslekérdezés elküldése
Leírás
Műszaki paraméterek
 
 

Termékleírás

 

CAS-SZÁMA:14405-43-7 Gallium(III)-acetil-acetonát Számos speciális alkalmazási területe van az iparban és a tudományos kutatásban, főként nagy tisztaságú prekurzor anyagként és katalizátorként.

 

Miért a gallium-acetil-acetonát a vékonyréteg-lerakódás mag-prekurzora?

1.Kiváló oldhatóság és kompatibilitás: Organogallium-só prekurzorként könnyen oldódik oldószerekben, például ecetsavban, és vízmentes prekurzor oldatokká formálható, hogy megfeleljen a több-folyamatos előállítás igényeinek.

 

2.Kiváló folyamatkompatibilitás: Megfelelő olvadáspontja és illékonysága miatt pontosan illeszkedik a CVD és ALD folyamatokhoz, lehetővé téve az egyenletes filmlerakódást és az atomi{1}}szint szabályozását.

 

3. Erős technológiai bővíthetőség: Pontos galliumforrást biztosít széles sávszélességű vékony filmekhez, mint például a GaN és Ga2O3, és összekapcsolja a fémgallium epitaxiás és lerakódási folyamatait.
 

 

Termékleírás

 

Termék neve Gallium(III)-acetil-acetonát
CAS SZÁM 14405-43-7 
TÉTELSZÁM M14405437
Megjelenés Tört-fehér kristályos
Tisztaság 99%
Csomag 10g/25g/1kg/25kg
Ga tartalom 18-19.5%
Szállítás 2-3 nap
Tárolás 2-8 fok
MSDS/COA Kapcsolj össze minket

 

Termékek alkalmazása

 

1. Félvezető és optoelektronikai vékonyréteg-előkészítés;
2. Nanoanyagok és fotokatalitikus szintézis;
3. Új energiájú akkumulátoranyagok alkalmazása
4. Perovszkit napelemek gyártása;
5. Nanowire szintézis és kémiai katalízis

 

 

product-633-571
A CVD (Chemical Vapor Deposition)/ALD (Atomic Layer Deposition) prekurzor forrásaként használható vékonyréteges anyagok kémiai gőzleválasztására és atomi réteges leválasztására.


A félvezető{0}}specifikus vékonyréteg-prekurzorok egyenletes és stabil hőbomlást mutatnak. Elsősorban gallium-nitrid és gallium-oxid vékonyrétegek előállítására használják, alkalmazkodva a forgács- és fénykibocsátó eszközök bevonási folyamataihoz. Speciális szerves szintézisekben katalízisre is használhatók.

product-610-400

 

 

 

GYIK

 

K: Mik a fizetési feltételei?

V: Általában TT, L / C, PAPAL stb.

K: Ön gyártó vagy kereskedelmi vállalat?

V: Gyártó. Egyes speciális vagy ritka termékekhez beszállítót találhatunk az Ön számára.

K: Van kedvezmény?

V: Igen, különböző mennyiség, különböző árajánlattal.

K: Kaphatok egy mintát?

V: Igen, az alacsony értékű termékek esetében általában ingyenes mintát biztosítanak.

K: Mely kutatási területeken alkalmazzák elsősorban a gallium-acetil-acetonátot?

V: Gallium{0}}alapú epitaxiális vékonyréteg-előkészítés; Optoelektronikai eszközök kutatása és fejlesztése; Újszerű vékonyrétegek feltárása stb.

 

 

 

 

 

 

Népszerű tags: cas-szám:14405-43-7 gallium(iii)-acetil-acetonát, Kína cas-szám:14405-43-7 gallium(iii)-acetil-acetonát gyártók, beszállítók