Termékleírás
A PEES (pEES) savra labilis etoxi-etoxi-védőcsoportot hordoz, amely savkatalízissel gyorsan eltávolítható. Jó hőstabilitást és rendkívül alacsony fémszennyeződést tartalmaz. Polimerizálható polihidroxisztirol (PHS) előállítására nagy felbontású KrF kémiailag erősített fotoreziszthez.
Termékleírás
| Termék neve | PEES/4-(Etoxietoxi)sztirol |
| CAS SZÁM | 157057-20-0 |
| TÉTELSZÁM | M120 |
| Megjelenés | Színtelen tiszta folyadék |
| Tisztaság | 99%-nál nagyobb vagy egyenlő |
| Víztartalom | 0,05 % vagy annál kisebb |
| Fémion szennyeződések | Kisebb vagy egyenlő, mint 1 ppb |
| Csomag | 100g/1kg/10kg stb. |
| Szállítás | 2-3 nap |
| Tárolás | szobahőmérsékletű |
| MSDS/COA/TDS | Kapcsolj össze minket |
Termékek alkalmazása
A PEES-t (p-(1-etoxietoxi)sztirol) főként KrF fotoreziszt gyanta szintézisére használják félvezető mikroelektronikában, funkcionális polimer anyagokban és fejlett új anyagok kutatás-fejlesztési iparában.
GYIK
K: Mik a PEES tárolási követelményei?
V: TBC-gátlóval stabilizálva. Fénytől védve, lezárva, 2-8 fokon tárolandó. A levegő és a hőforrás izolálása a vinil önpolimerizációjának és a sav általi idő előtti eltávolításának megakadályozása érdekében.
K: Mi a PEES monomer elve a KrF fotoreziszt gyanta rendszerben?
V: A PEES savérzékeny etoxietoxi védőcsoportot tartalmaz. A litográfiás expozíció után keletkező fotosav a védőcsoport eltávolítását váltja ki. A gyanta lúgban oldhatatlanról lúgban oldódóra változik az ostyamintázat kialakításához.
K: Milyen védelem szükséges a PEES működéséhez az SDS szerint?
V: Irritálja a szemet, a bőrt és a légutakat. A műveletet füstelszívóban, védőszemüveggel, oldószerálló kesztyűvel és arcvédővel kell végezni.
K: Mi a fő különbség a PEES és a pACS / PTBS fotoreziszt monomerek között?
V: A PEES etoxi-etoxi-védőcsoporttal rendelkezik, gyors savas védőcsoport-eltávolítási sebességgel. A pACS-nek hidrolízisre van szüksége a védőcsoport eltávolításához, a PTBS-ben terc-butoxicsoport van. Különböző fotoreziszt érzékenységre tervezték.
K: Mi történik a PEES monomer savra labilis védőcsoportjával a KrF fotoreziszt expozíció során?
V: Az expozíció során fotosav képződik. Az etoxi-etoxi-védőcsoport gyorsan hasad. A polimer fenolos hidroxil szerkezetté alakul, lúgban oldhatatlanról lúgban oldódóra változik a litográfiai mintázat kialakításához.
Népszerű tags: cas-szám:157057-20-0 pees/4-(etoxi-etoxi)sztirol, Kína cas-szám:157057-20-0 pees/4-(etoxi-etoxi)sztirol gyártók, beszállítók
