CAS NO:2628-16-2 PACS/AST/4-Acetoxisztirol

Molekulaképlet: C10H10O2
Molekulatömeg: 162,19
Alkalmazás: A 4-acetoxisztirolt főként a félvezető mikroelektronika KrF fotoreziszt, funkcionális polimer gyanta, ioncserélő adszorpciós gyanta és gyógyszerészeti szerves szintézis iparban alkalmazzák.

A szálláslekérdezés elküldése

Leírás

Műszaki paraméterek

Termékleírás

A 4-acetoxisztirol (AST) egy sztirol monomer acetil védőcsoporttal. Jobb tárolási stabilitású, mint a 4-hidroxisztirol. Polimerizáció után hidrolizálható polihidroxisztirol (PHS) előállítására. Alacsony fémszennyeződésével ez a 248 nm-es KrF fotoreziszt alapgyanta legfontosabb alapanyaga.

Termékleírás

Termék neve	pACS/AST/4-Acetoxisztirol
CAS SZÁM	2628-16-2
TÉTELSZÁM	M212
Megjelenés	Színtelen tiszta folyadék
Tisztaság	99%
Sűrűség	1,06 g/ml 25 fokon
Törésmutató	1.538
Forráspont	260 fok
Olvadáspont	7-8 fok
Csomag	100g/1kg/10kg stb.
Szállítás	2-3 nap
Tárolás	2-8 fok
MSDS/COA/TDS	Kapcsolj össze minket

Termékek alkalmazása

A 4-acetoxisztirolt (pACS/AST) főként KrF fotorezisztben használják félvezető mikroelektronikában, funkcionális polimer gyantákban és gyógyszerészeti szerves szintézis iparban.

product-3000-1095

GYIK

K: Milyen szerepet játszik a pACS a KrF fotoreziszt gyártásában?

V: A polimerizáció és a hidrolízis után a pACS PHS alapgyantát képez, amely a 248 nm-es KrF pozitív fotoreziszt filmképző fő gyantája és a fotoreziszt egyik alapvető nyersanyaga.

K: Miért szükséges a pACS 2-8 fokos hűtése?

V: A pACS vinilcsoportokat tartalmaz, és szobahőmérsékleten hajlamos az önpolimerizációra. Az alacsony hőmérsékletű hűtés TBC-gátlóval együtt hatékonyan gátolja a polimerizációt és megakadályozza az acetil-védőcsoportok idő előtti hidrolízisét.

K: Milyen formulázási előnyökkel járhat a pACS monomer a KrF fotoreziszt számára?

V: A pACS nagy tisztaságú és alacsony fémszennyeződésekkel rendelkezik. A polimerizált PHS gyanta szűk molekulatömeg-eloszlású. Az így kapott KrF fotoreziszt nagy képfelbontást és alacsony vonali élegyenetlenséget biztosít, amely alkalmas szilícium lapkák finom áramkörű gyártására.

K: Milyen forgatókönyvek alkalmasak pACS-ből készült fényérzékeny bevonatokhoz?

V: A bevonat hőálló, és elektronikus alkatrészek védőbevonataként használható, hogy megfeleljen a magas hőmérséklet-ellenállás és a szigetelésvédelem követelményeinek.

Népszerű tags: cas no:2628-16-2 pacs/ast/4-acetoxystyrene, Kína cas no:2628-16-2 pacs/ast/4-acetoxystyrene gyártók, beszállítók